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光学镀膜薄膜的光学性质,如折射率、吸收和激光损伤阈值,主要依赖于膜层的显微结构。薄膜材料、残余气压和基底温度都可能影响薄膜的显微结构。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低,则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时,这些微孔逐渐被水汽所填充。在沉积过程中,每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点,这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用,因而,折射率是蒸发材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。透明壳硬化加工

光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在材料基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。一般是10的-5次方的真空 然后采用真空蒸镀溅射法 将靶材的金属溅射到玻璃上为各种应用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。透明壳硬化加工

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